铁电液晶光寻址空间光调制器响应速度的宏模型研究

• 作者: 张伟利 潘炜 熊悦 王梦遥 罗斌 邹喜华
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电液晶 光寻址空间光调制器 宏模型 响应速度
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 光学元器件
• 页码范围: 35-37
• 页数: 3页
• 分类号: TN141.9|O753+.2
• 字数: 2146字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2005.01.039

摘要

将铁电液晶(FLC)的本征电路模型扩展到以FLC为调制层,a-Si∶H为光敏层的光寻址空间光调制器(OASLM),建立了FLC-OASLM的宏模型.用电路方法模拟了控制光强度以及外部激励信号的特征参数对FLC-OASLM响应速度的影响.模拟结果表明,FLC-OASLM的响应速度随写入光强度和激励信号幅度的增大而加快,随擦除光强度和激励信号频率的提高而减慢.同时,激励信号存在一个上界频率,当频率参数取值超过界值时,响应峰值迅速下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王梦遥	西南交通大学计算机与通信工程学院	16	135	8.0	11.0
2	潘炜	西南交通大学计算机与通信工程学院	210	1270	17.0	25.0
3	罗斌	西南交通大学计算机与通信工程学院	196	1240	15.0	26.0
4	邹喜华	西南交通大学计算机与通信工程学院	45	282	8.0	15.0
5	张伟利	西南交通大学计算机与通信工程学院	25	289	9.0	16.0
6	熊悦	西南交通大学计算机与通信工程学院	6	85	4.0	6.0