偏压对镁合金表面磁控溅射CrAlTiN膜层的影响

• 作者: 蒋百灵 陈迪春
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 磁控溅射 偏压 薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 有色金属的热处理与表面工程
• 页码范围: 211-214
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.2|TG174.444
• 字数: 2336字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2005.z1.047

摘要

使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀体系于镁合金表面制备了CrAlTiN膜层,检测了膜层厚度和硬度,在扫描电子显微镜(SEM)下观察了膜层的表面形貌和截面形貌,使用了X衍射仪分析了膜层的相组成.结果表明:薄膜组织为纤维状柱状晶组织,随着偏压增大,膜层表面致密性增强,颗粒头部平滑,颗粒间孔洞减少;CrAlTiN薄膜具有与CrN相同的晶体结构,在偏压为40V时出现了(111)晶面的择优取向,在60V时出现了(220)晶面的择优取向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	陈迪春	西安理工大学材料科学与工程学院	15	95	5.0	9.0