热处理工艺对合金薄膜电阻及其稳定性的影响

• 作者: 彭银桥 甘元驹
• 来源期刊: 传感器技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜合金电阻 压力传感器 热处理 稳定性
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 27-28,31
• 页数: 3页
• 分类号: TG154.5|TG146
• 字数: 1473字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-9787.2005.07.010

摘要

利用离子束溅射镀膜技术,在17-4PH不锈钢弹性衬底上直接溅射SiO2绝缘膜和NiCr薄膜,制备了一种新型的压力传感器用合金薄膜.分析了热处理工艺对合金薄膜电阻稳定性的影响,对NiCr薄膜电阻进行了4种热处理工艺,获得了使合金薄膜电阻长期稳定的热处理工艺参数:在SiOx和N2的保护下,673K退火1h,并在473K下保温24h.用该工艺能制备适应各种恶劣环境的高精度压力传感器.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭银桥	湛江海洋大学信息学院	10	77	6.0	8.0
2	甘元驹	湛江海洋大学信息学院	10	65	5.0	7.0