钛合金微弧氧化陶瓷膜微观特性的分析

• 作者: 朱剑豪 李炯 沈丽如 王珂 童洪辉 金凡亚
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 钛合金 陶瓷膜 微观特性
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 实用技术
• 页码范围: 42-44
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.451
• 字数: 2419字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2005.08.014

摘要

微弧氧化膜存在微米量级宏孔,这些宏孔对氧化膜特征的研究非常重要.研究了微弧氧化中电流密度对微弧氧化膜的生长速率、结构形貌及相组成的影响,并对氧化膜进行了离子束抛光处理,分析了氧化膜和微孔的组织结构.研究表明:电源频率固定为1 500 Hz/5 μs和氧化膜厚为10 μm时,随着氧化电流密度的增大,氧化膜的生成速度和孔径都随之增大,但同一膜厚的氧化层组成成分金红石型TiO2和锐钛矿型TiO2的相对含量无明显变化;离子束抛光后的氧化膜膜层外疏内密,放电通道内表面更是淀积了电解液溶质、氧化膜颗粒及基材等多种物质的纳米微颗粒.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金凡亚		57	226	8.0	12.0
3	沈丽如		52	377	11.0	16.0
4	李炯		10	102	6.0	10.0
5	童洪辉		51	520	10.0	21.0
6	朱剑豪	香港城市大学物理与材料科学系	24	387	9.0	19.0
9	王珂		3	36	3.0	3.0