生长温度对纳米AlN薄膜的表面形貌和结晶特性的影响

• 作者: 张庆瑜 李善锋 王娟 郑晓娟
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铝 磁控溅射 表面形貌 结晶特性
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 93-96
• 页数: 4页
• 分类号: TG115.221|TG174.442
• 字数: 4121字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.01.028

摘要

采用射频(RF)反应磁控溅射方法制备了具有原子级平滑表面的纳米AlN薄膜.利用傅立叶红外光谱(FTIR)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)、卢瑟福背散射(RBS)等分析方法对不同实验条件下合成的AlN薄膜进行了表征,研究了不同沉积温度(室温约550℃)下的AlN薄膜的表面形貌特征和结晶特性,探讨了AlN薄膜表面形貌的变化规律及纳米薄膜的形成机制.分析结果显示:不同沉积温度下合成的AlN薄膜均具有原子量级平滑的表面,薄膜表面粗糙度(RMS)为0.2～0.4 nm,且不随沉积温度的增加而发生明显变化;薄膜的晶粒尺度为20～30nm,薄膜的折射率随沉积温度的增加而增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王娟	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	13	81	6.0	8.0
2	张庆瑜	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	92	897	16.0	25.0
3	李善锋	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	9	43	5.0	6.0
4	郑晓娟	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	1	2	1.0	1.0