兆声清洗法和离心喷射清洗法的比较

• 作者: 凤坤 刘培东 史迅达 李刚 许峰
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 兆声 离心喷射 清洗 颗粒 硅片 RCA
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 410-413
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 2931字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.02.037

摘要

用基于改进的RCA清洗液结合兆声清洗法和离心喷射法清洗抛光的硅片,干燥后用激光扫描法测试抛光硅片表面颗粒.结果表明,改进的RCA清洗液结合兆声的清洗方法对于去除硅片表面的微小颗粒具有更高的效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	凤坤		2	18	2.0	2.0
2	史迅达		1	6	1.0	1.0
3	李刚		2	18	2.0	2.0
4	许峰		1	6	1.0	1.0
5	刘培东		1	6	1.0	1.0