利用基质抑制效应检测小质量的气溶胶粒子

• 作者: 周留柱 张为俊 方黎 朱元 赵文武 郑海洋 郭晓勇 顾学军
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 气溶胶飞行时间质谱仪 基质辅助激光解吸附电离 基质抑制效应
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1551-1554
• 页数: 4页
• 分类号: O6
• 字数: 3162字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2005.11.009

摘要

研究了气溶胶粒子的基质辅助激光解吸附电离质谱,在基质对分析物的摩尔比较高时,同时出现了基质和分析物离子峰;在基质对分析物的摩尔比低于5:1时,出现了基质抑制效应.基质抑制效应可以产生高质量的质谱,即:质谱中分析物信号较强,基质信号很弱或者消失.因此,利用基质抑制效应,可以检测低分子量的分析物.