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TiN/SiO2纳米多层膜的晶体生长与超硬效应
TiN/SiO2纳米多层膜的晶体生长与超硬效应
作者:
李建国
李戈扬
梅芳华
邵楠
魏仑
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
TiN/SiO2纳米多层膜
外延生长
非晶晶化
超硬效应
摘要:
高硬度的含氧化物纳米多层膜在工具涂层上具有重要的应用价值.研究了TiN/SiO2纳米多层膜的晶体生长特征和超硬效应.一系列具有不同SiO2和TiN调制层厚的纳米多层膜采用多靶磁控溅射法制备;采用x射线衍射、x射线能量色散谱、高分辨电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能.结果表明,虽然以单层膜形式存在的TiN和SiO2分别形成纳米晶和非晶结构,它们组成多层膜时会因晶体生长的互促效应而呈现共格外延生长的结构特征.在SiO2调制层厚度约小于1 nm时,多层膜呈现强烈的(111)织构,并伴随着硬度和弹性模量的显著上升,最高硬度和弹性模量分别达到44.5和473 GPa.进一步增加SiO2层的厚度,由于SiO2层呈现非晶态,多层膜的共格外延生长受到抑制,硬度也相应降低.TiN调制层厚度的改变虽对多层膜的生长结构和力学性能也有影响,但并不明显.
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内容分析
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关键词热度
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(/年)
文献信息
篇名
TiN/SiO2纳米多层膜的晶体生长与超硬效应
来源期刊
物理学报
学科
物理学
关键词
TiN/SiO2纳米多层膜
外延生长
非晶晶化
超硬效应
年,卷(期)
2005,(4)
所属期刊栏目
凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向
页码范围
1742-1748
页数
7页
分类号
O4
字数
5736字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-3290.2005.04.050
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李建国
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
94
713
15.0
22.0
2
李戈扬
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
109
1036
18.0
25.0
3
邵楠
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
12
95
6.0
9.0
4
梅芳华
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
7
73
6.0
7.0
5
魏仑
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
9
138
6.0
9.0
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(/年)
引文网络
引文网络
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节点文献
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二级引证文献(0)
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2017(10)
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二级引证文献(5)
2019(4)
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二级引证文献(3)
2020(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
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TiN/SiO2纳米多层膜
外延生长
非晶晶化
超硬效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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