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摘要:
研究了一种新的钝化CdZnTe(CZT)器件表面的工艺,即先采用KOH-KCl溶液对CZT表面进行处理,再用NH4F/H2O2溶液对其进行表面氧化的二步法钝化工艺.并借助俄歇电子能谱(AES)、微电流测试仪等手段对其表面钝化层的质量进行了鉴别,同时与KOH-KCl和NH4F/H2O2两种工艺进行了比较.AES能谱分析表明,采用二步法工艺钝化,既可获得化学计量比较好的CZT表面,又可在表面形成一层起保护作用的氧化层.I-Ⅴ特性曲线显示,两步法钝化后CZT器件的漏电流与KOH-KCl和NH4F/H2O2钝化相比都有一定程度的下降.说明文中提出的新工艺在CZT器件制备方面具有良好的应用前景.
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文献信息
篇名 CdZnTe材料的表面钝化新工艺
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 CdZnTe晶体 表面钝化 漏电流
年,卷(期) 2005,(7) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1475-1479
页数 5页 分类号 TL814
字数 2392字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.07.036
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 桑文斌 上海大学材料科学与工程学院 53 535 15.0 20.0
2 闵嘉华 上海大学材料科学与工程学院 54 281 10.0 15.0
3 钱永彪 上海大学材料科学与工程学院 14 108 6.0 10.0
4 张奇 上海大学材料科学与工程学院 6 79 6.0 6.0
5 王昆黍 上海大学材料科学与工程学院 5 54 4.0 5.0
6 腾建勇 上海大学材料科学与工程学院 1 7 1.0 1.0
7 夏军 上海大学材料科学与工程学院 1 7 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
CdZnTe晶体
表面钝化
漏电流
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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