焙烧水滑石对氯离子的去除性能研究

• 作者: 任玉华 刘春苹 刘淑芬 吕菊波 王芳芳 胡玉才 荣明霞
• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 工学
• 关键词: 水滑石 焙烧 氯离子 去除
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 7-8
• 页数: 2页
• 分类号: TQ052.6
• 字数: 1263字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1124.2005.02.003

摘要

采用晶核/隔离法制备水滑石,并用X射线衍射技术对样品物相表征;利用水滑石焙烧后在一定条件下可重新吸收水和阴离子,从而部分恢复层状结构的结构记忆效应,考察了不同温度焙烧的水滑石去除氯离子的性能.实验结果表明,400℃下焙烧的水滑石对氯离子的去除率最高,达到39.0%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡玉才	烟台师范学院化学与材料科学学院	15	171	8.0	13.0
2	刘淑芬	烟台师范学院化学与材料科学学院	39	237	9.0	13.0
3	吕菊波	烟台师范学院化学与材料科学学院	18	184	8.0	13.0
4	任玉华		1	24	1.0	1.0
5	荣明霞	烟台师范学院化学与材料科学学院	1	24	1.0	1.0
6	王芳芳	烟台师范学院化学与材料科学学院	1	24	1.0	1.0
7	刘春苹	烟台师范学院化学与材料科学学院	1	24	1.0	1.0