优化的基于模型的光学邻近矫正算法

• 作者: 周强 洪先龙 王旸 蔡懿慈
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 光学邻近效应 基于模型的光学邻近矫正
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 601-605
• 页数: 5页
• 分类号: TN405.97
• 字数: 3575字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.03.034

摘要

提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响,实现了线段切割和移动步长的自适应性,提高了系统的矫正精度及矫正速度,实验结果表明该算法是有效的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	洪先龙	清华大学计算机科学与技术系	114	410	9.0	11.0
2	蔡懿慈	清华大学计算机科学与技术系	68	273	8.0	11.0
3	周强	清华大学计算机科学与技术系	73	599	13.0	22.0
4	王旸	清华大学计算机科学与技术系	4	17	2.0	4.0