多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定

• 作者: 刘维民 力虎林 孙小伟 徐洮 李燕 王建 王成伟
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 光学常数 多孔阳极氧化铝 阳极氧化电压
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 439-444
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 3622字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.01.082

摘要

根据多孔阳极氧化铝(AAO)薄膜的实验透射谱(200-2500nm),采用极值包络线算法确定其光学常数,并由此较精确地计算出AAO薄膜样品在该波段的光学常数.结果表明,多孔氧化铝薄膜表现出直接带隙(能隙约4.5 eV)半导体的光学特性,且其光学常数与制样中的重要工艺参数阳极氧化电压有显著的相关性,即随阳极氧化电压的增加,AAO薄膜的厚度、折射率和光学能隙变大,消光系数减小.同时,计算得到的薄膜厚度与实测值相吻合,则说明计算结果和实验值是自洽的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘维民	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	307	5597	38.0	57.0
2	孙小伟	西北师范大学物理与电子工程学院	4	34	2.0	4.0
3	李燕	西北师范大学物理与电子工程学院	42	183	7.0	10.0
4	王成伟	西北师范大学物理与电子工程学院	32	153	7.0	10.0
5	王建	西北师范大学物理与电子工程学院	37	143	7.0	10.0
6	徐洮	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	75	815	16.0	23.0
7	力虎林	兰州大学化学化工学院	68	1402	21.0	35.0