FeCoV(N)薄膜的直流磁控溅射工艺及其结构

• 作者: 任玉锁 刘文言 曲敬信
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 物理学
• 关键词: Fe49Co49V2合金 直流磁控溅射 晶粒细化机理 氮
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 33-37
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3645字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2005.05.010

摘要

利用永磁型阴极磁控溅射系统,以直流磁控方式在纯Ar气和Ar+N2气工作气氛中溅射制备了FeCoV薄膜,研究了Fe49Co49V2靶的厚度、N2/Ar流量比与沉积率之间的关系以及N2/Ar流量比对薄膜微观结构的影响.研究结果表明,该薄膜在低温抑制型模式下生长,晶粒大小主要决定于形核率和岛状微晶的生长,当工作气体中引入N2气后,具有活性的N原子与溅射原子一起沉积到薄膜生长表面,通过减缓或阻止微晶生长、接合,对FeCoV薄膜的晶粒起到了显著的细化作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曲敬信	中国矿业大学材料科学与工程系	21	194	7.0	13.0
2	刘文言		7	83	4.0	7.0
3	任玉锁	中国矿业大学材料科学与工程系	4	7	2.0	2.0