脉冲激光沉积(PLD)的研究动态与新发展

• 作者: 李谭 王永仓 赵省贵 金克新 陈钊 陈长乐 高国棉
• 来源期刊: 材料导报
• 关键词: PLD 等离子体 薄膜沉积
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 新材料新技术
• 页码范围: 69-71
• 页数: 3页
• 字数: 5056字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2005.02.021

摘要

介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的原理、特点,详细探讨了脉冲激光沉积的研究动态和发展趋势.大量研究表明,PLD技术是目前制备薄膜的最好方法之一.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金克新	西北工业大学理学院	60	201	7.0	11.0
2	陈长乐	西北工业大学理学院	144	734	13.0	20.0
3	陈钊	西北工业大学理学院	21	191	6.0	13.0
4	高国棉	西北工业大学理学院	23	239	7.0	15.0
6	王永仓	西北工业大学理学院	19	171	4.0	12.0
8	赵省贵	西北工业大学理学院	17	73	4.0	7.0
13	李谭	西北工业大学理学院	3	112	2.0	3.0