电沉积铁氰化镍薄膜的电控离子交换性能

• 作者: 刘世斌 孙彦平 张忠林 郝晓刚 郭金霞
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 电化学控制离子交换 铁氰化镍薄膜 电沉积 制备
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 表面与界面工程
• 页码范围: 2380-2386
• 页数: 7页
• 分类号: TQ035
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-1157.2005.12.021

摘要

采用电沉积方法在不同导电基体上制备出具有电化学控制离子交换(ESIX)性能的电活性NiHCF(nickel hexacyanoferrate)薄膜.在1 mol·L-1KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放碱金属离子,比较了铂、铝和石墨基体上薄膜的电活性、离子交换容量及再生能力;在1 mol·L-1(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线和电化学交流阻抗谱,分析了薄膜对Cs/K离子的选择性.重点考察了制膜液组成对薄膜电化学性能的影响,通过EDS测定薄膜组成并结合循环伏安曲线分析了薄膜组成和结构与其电化学特性之间的关系.实验表明,3种基体材料上均能制得性能稳定的NiHCF膜,铝和石墨基体上的NiHCF薄膜同样具有良好的ESIX性能;控制制膜液组成可得到不同组分占优的膜,由此可筛选较为理想的ESIX膜材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘世斌	太原理工大学洁净化工研究所	123	602	13.0	18.0
2	孙彦平	太原理工大学洁净化工研究所	136	1387	19.0	29.0
3	郝晓刚	太原理工大学洁净化工研究所	138	831	15.0	22.0
4	张忠林	太原理工大学洁净化工研究所	84	493	12.0	17.0
5	郭金霞	太原理工大学洁净化工研究所	3	50	3.0	3.0