电化学反应过程中黄铜表面的原位显微拉曼光谱分析

• 作者: 孟永钢 温诗铸 胡波
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 显微拉曼光谱 电化学 摩擦
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: TH117
• 字数: 1673字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2005.05.002

摘要

利用显微共焦拉曼光谱仪在线分析了在以十二烷基硫酸钠水溶液为电解液、石墨为辅助电极时电化学反应过程中黄铜表面化学成分的变化,进而分析了外加电压引起摩擦因数变化的机理.结果表明:外加电压对摩擦因数的控制主要通过对表面有机离子吸附膜的影响来实现;黄铜表面存在有机离子吸附或反应而形成的边界润滑膜时摩擦因数较低;黄铜表面不存在有机离子润滑膜而存在较多的氢氧根离子时摩擦因数较高;溶液的搅拌对电控摩擦的恢复有较重要的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	温诗铸	清华大学摩擦学国家重点实验室	156	3364	28.0	50.0
2	孟永钢	清华大学摩擦学国家重点实验室	94	907	17.0	24.0
3	胡波	清华大学摩擦学国家重点实验室	7	66	3.0	7.0