10-羟基喜树碱的合成及光谱表征

• 作者: 徐春艳 薛传薪 黄明智
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 化学
• 关键词: 喜树碱 10-羟基喜树碱 红外光谱 质谱 核磁共振波谱
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 页码范围: 1772-1774
• 页数: 3页
• 分类号: O621.1
• 字数: 1845字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-0593.2005.11.008

摘要

喜树碱在30%过氧化氢氧化作用下生成喜树碱氮氧化物(OPT),然后在浓硫酸催化下,光化学重排反应得到10-羟基喜树碱.通过正交实验,确定氧化反应最佳条件为:反应时间4 h,反应温度75℃,30%双氧水用量48mL,溶剂乙酸用量350mL(相对于0.01 mol喜树碱);光化反应条件:溶剂为V(1,4-二氧六环):V(乙腈):V(H2O)=6:2:1,浓硫酸为催化剂,经过硅胶柱层析提纯,回收率为49.9%,纯度为99.5%,熔点272～273℃.通过红外光谱、质谱,一维、二维核磁共振波谱等手段对目标化合物的分子结构进行了表征,对化合物的红外光谱吸收峰及核磁谱线进行了归属分析,开发新的喜树碱衍生物提供了光谱依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄明智	北京化工大学材料科学与工程学院	46	544	14.0	21.0
2	徐春艳	北京化工大学材料科学与工程学院	18	88	6.0	8.0
3	薛传薪	北京化工大学材料科学与工程学院	17	104	7.0	9.0