二氧化硅吸附铝离子的X射线光电子能谱(XPS)表征

• 作者: 徐仁扣 杨杰文 蒋新 许良珠
• 来源期刊: 光谱实验室
• 学科: 化学
• 关键词: 铝离子 吸附 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 666-668
• 页数: 3页
• 分类号: X131.3|O657.62
• 字数: 1483字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-8138.2005.03.057

摘要

用X射线光电子能谱技术研究了不同pH条件下二氧化硅对铝离子的吸附作用.在pH分别为3.74、4.25和4.88条件下,吸附在二氧化硅表面的铝离子的Al2p电子结合能依次为74.30、74.90、75.10eV.根据Al3+在水溶液中的一级水解常数pK1=4.99,认为在pH=3.74条件下,吸附在二氧化硅表面的铝离子的形态为Al3+,而在其余两种pH条件下表面铝离子的形态为Al(OH)2+.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐仁扣	中国科学院南京土壤研究所	90	2229	26.0	45.0
2	蒋新	中国科学院南京土壤研究所	127	4325	38.0	61.0
3	许良珠	湛江海洋大学农学院资源与环境系	9	101	7.0	9.0
4	杨杰文	湛江海洋大学农学院资源与环境系	2	77	2.0	2.0