介质阻挡放电化学气相沉积法制备DLC薄膜研究

• 作者: 张溪文 徐世友 韩高荣
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: DBD-CVD DLC 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 555-558
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2953字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.04.022

摘要

采用介质阻挡化学气相沉积法(DBD-CVD)在Si及石英衬底上、室温下成功的沉积出光滑、致密、均匀、膜基结合较好的类金刚石(DLC)薄膜,并考察了电源电压对类金刚石薄膜结构及性能的影响.拉曼光谱(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见光谱(UV-Vis)、高阻仪等测试及分析结果显示DBD-CVD法适于制备高质量硬质DLC薄膜.对DBD放电做了理论分析,结果与工艺研究的结论相符合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学硅材料国家重点实验室	187	1971	24.0	35.0
2	张溪文	浙江大学硅材料国家重点实验室	43	309	11.0	16.0
3	徐世友	浙江大学硅材料国家重点实验室	2	12	1.0	2.0