影响X光源特性的参数研究

• 作者: 刘军 刘进 崔蔚 施将君 李必勇
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: MC模拟 电子束参数 转换靶 照射量
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 光电子学
• 页码范围: 209-213
• 页数: 5页
• 分类号: TN248.1
• 字数: 3585字
• 语种: 中文

摘要

针对高能电子束撞击重金属靶产生轫致辐射光子,利用蒙特卡罗方法详细研究了电子束半径与发射度以及靶的厚度对X光源特性的影响.结果表明:电子束半径与发射度不仅是影响照射量的主要因素,也是造成照射量分布不均匀的主要原因;给定电子束,存在一个靶厚度使得靶前1 m处的照射量最大.因此,在X射线成像系统的设计和模拟过程中,应综合考虑电子柬半径与发射度和靶厚的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘军	中国工程物理研究院流体物理研究所	90	351	11.0	14.0
2	刘进	中国工程物理研究院流体物理研究所	54	213	9.0	12.0
3	施将君	中国工程物理研究院流体物理研究所	37	191	9.0	12.0
4	崔蔚	中国工程物理研究院工学院计算机系	36	94	6.0	9.0
5	李必勇	中国工程物理研究院流体物理研究所	11	120	7.0	10.0