C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的机理研究

• 作者: 吴雪梅 柳襄怀 诸葛兰剑
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 栅发射 C薄膜 Hf薄膜 BaO
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 2005年功能材料学术年会论文集
• 页码范围: 28-30,35
• 页数: 4页
• 分类号: TN124
• 字数: 3709字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.z1.013

摘要

利用双离子束溅射和射频磁控溅射技术在Mo基底上分别制备了C膜和Hf膜,并利用化学方法制备了BaO涂层以模拟行波管栅极结构,随后在N2保护下,通过在900～1300K范围内退火,研究样品处于高温工作环境下表面相结构和成分的变化,以此解释了C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的工作机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	柳襄怀	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	20	202	9.0	14.0