抛光电极表面对加压水介质耐压的影响

• 作者: 周相 张建德 张自成 杨建华
• 来源期刊: 高电压技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电极表面光滑程度 加压水介质 高电压击穿
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 高电压新技术
• 页码范围: 52-54
• 页数: 3页
• 分类号: TL503
• 字数: 2617字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6520.2005.10.019

摘要

改变加水介质同轴实验装置电极表面的光滑程度,进行了μs级充电下的击穿实验,实验结果表明:抛光电极表面后加压水介质击穿场强Eb与水静压P关系仍为Eb∝P1/8;与未抛光时相比,Eb提高了～20%;加压比抛光更能提高Eb;加压延长了击穿延迟时间而抛光减弱了场致发射电流,气泡也较难附着在电极表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨建华	国防科技大学光电科学与工程学院	26	122	5.0	10.0
2	张建德	国防科技大学光电科学与工程学院	27	107	6.0	8.0
3	周相	国防科技大学光电科学与工程学院	4	18	2.0	4.0
4	张自成	国防科技大学光电科学与工程学院	6	31	1.0	5.0