YAG激光晶化多晶硅

• 作者: 刘建平 吴春亚 张丽珠 张德坤 李娟 熊绍珍 王海文 赵淑云
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: YAG脉冲激光 激光晶化 微晶硅
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1572-1576
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.1+2
• 字数: 3116字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.08.018

摘要

报道了采用YAG脉冲激光器对硅基薄膜进行晶化制备多晶硅的实验结果,其中主要针对以PECVD法制备的不同硅基薄膜(如非晶硅和微晶硅)为晶化前驱物,以及对激光能量的利用等问题进行了分析研究.实验发现,晶化需要基本的阈值能量流密度,而晶化硅基前驱物材料的结构,是决定此阈值的关键.延迟降温速率对激光晶化是一种较为有效的手段,并对所得的初步结果进行了讨论.