敞开式冷却水系统硅垢沉淀的防治方法

• 作者: Norihiko Onishi 刘国晶（译）
• 来源期刊: 水处理信息报导
• 学科: 工学
• 关键词: 冷却水系统 防治方法 敞开式 沉淀 硅垢 SIO2 浓度范围 浓缩倍数 控制系统 补充水
• 年，卷（期）: sclxxbd_2005,（6）
• 页码范围: 43
• 页数: 1页
• 分类号: TQ085.4

摘要

该方法通过计算SiO2的浓度确定水系统中的浓缩倍数，根据循环水中测定的电导率确定系统补充水中SiO2的浓度，并且控制系统排水或系统补水，保持SiO2的浓度范围在180～230mg／L。