脉冲激光沉积法合成Bi2Ti2O7介电薄膜及其光吸收特性

• 作者: 何泓材 南策文 周剑平 周西松 林元华 王建飞
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Bi2Ti2O7 脉冲激光沉积法 介电性能 光吸收
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 页码范围: 74-77
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 1371字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.z1.020

摘要

控制单脉冲能量为350mJ,脉冲频率为5Hz,控制合适的基底温度,利用脉冲激光沉积法制备出Bi2Ti2O7薄膜材料.结果发现,SiO2基底温度控制在500～600℃,均能获得纯的Bi2Ti2O7薄膜.其介电常数约18.2左右,随频率变化比较稳定,介电损耗约0.015左右,并且在紫外波段200～450nm有着较强的紫外吸收能力,有望在微电子器件中获得应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林元华	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	37	1234	13.0	35.0
2	周西松	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	2	23	2.0	2.0
3	南策文	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	49	438	14.0	19.0
4	王建飞	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	2	10	2.0	2.0
5	何泓材	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	2	3	1.0	1.0
6	周剑平	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	1	3	1.0	1.0