基片倾斜角度对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响

• 作者: 张万里 张文旭 张金平 彭斌 杨仕清 蒋洪川
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 TbFe磁致伸缩薄膜 柱状微结构 形状各向异性
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 27-28,31
• 页数: 3页
• 分类号: TM271
• 字数: 1424字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.01.007

摘要

采用直流磁控溅射法制备了非晶态TbFe磁致伸缩薄膜,通过基片的倾斜安装研究了基片倾斜角度对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响.结果表明:随着基片倾斜角度的增大TbFe薄膜的磁致伸缩系数增大,在外加磁场110kA·m-1下基片倾斜角度为60°时薄膜磁致伸缩系数达到最大值1.02×10-4,并且随着基片倾斜角度的增大TbFe薄膜的易磁化方向由垂直膜面方向逐渐转向平行膜面方向.这是由于倾斜基片溅射形成的倾斜的薄膜柱状微结构产生的形状各向异性引起的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张金平	电子科技大学微电子与固体电子学院	19	83	5.0	8.0
2	蒋洪川	电子科技大学微电子与固体电子学院	74	586	12.0	19.0
3	杨仕清	电子科技大学微电子与固体电子学院	43	401	10.0	18.0
4	张万里	电子科技大学微电子与固体电子学院	142	705	13.0	17.0
5	彭斌	电子科技大学微电子与固体电子学院	87	638	12.0	21.0
6	张文旭	电子科技大学微电子与固体电子学院	35	302	9.0	16.0