氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的研究

• 作者: 刘志凯 吴正龙 张建辉 李庚伟 邵素珍
• 来源期刊: 材料导报
• 关键词: ZnO/Si异质结构 氧离子束辅助PLD X射线衍射 X射线摇摆曲线分析 X射线光电子能谱 半高宽度c轴单一取向
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 109-111
• 页数: 3页
• 字数: 3421字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2005.02.033

摘要

利用X射线衍射(XRD),X射线摇摆曲线(XRC)和X射线光电子能谱(XPS)分析方法对氧离子束辅助激光淀积生长的ZnO/Si异质结薄膜进行了分析.结果表明:用该法可生长出高度c轴单一取向ZnO薄膜,XRC的半高宽度(FWHM)仅为2.918°.表明此生长方法经优化,可生长出单晶质量很好的ZnO/Si薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴正龙	北京师范大学分析测试中心	41	276	7.0	15.0
2	邵素珍		9	13	2.0	3.0
3	刘志凯	中国科学院半导体材料科学实验室	17	43	4.0	5.0
4	张建辉	中国科学院半导体材料科学实验室	31	506	13.0	22.0
5	李庚伟	中国地质大学材料科学与工程学院	13	23	3.0	4.0