催化条件对SiO2静电自组装薄膜光学性质的影响

• 作者: 何方方 余海湖 周元林 夏安 廖其龙 许丕池
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 静电自组装 二氧化硅 光学增透膜 热处理 催化
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 832-835
• 页数: 4页
• 分类号: O664
• 字数: 2858字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.06.008

摘要

用NH3·H2O催化和先后经HCl、NH3·H2O、HCl依次分步催化分别制备了SiO2溶胶.在低折射率的玻璃基片上用静电自组装(electrostatic selfassembly multilayer,ESAM)法制备了聚电介质PDDA与SiO2的光学增透薄膜.研究了制备SiO2溶胶的催化条件对SiO2的光学增透薄膜在可见光区透光特性的影响.用傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、X光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)对薄膜进行了组成和结构分析,用721分光光度计测试薄膜的透光性能.结果显示,两种薄膜都使基片的透过率得到大大增加.NH3·H2O催化SiO2溶胶制备的SiO2光学增透膜使基片在波长为520nm处透过率达到99.2%,相对于HCl与NH3·H2O分步催化制备的薄膜强,但薄膜的耐刮伤能力较相对较差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖其龙	西南科技大学四川省先进建筑材料重点实验室	54	364	9.0	17.0
2	余海湖	武汉理工大学光纤中心	56	679	15.0	23.0
3	周元林	西南科技大学四川省先进建筑材料重点实验室	80	400	10.0	16.0
4	何方方	西南科技大学四川省先进建筑材料重点实验室	13	73	6.0	7.0
5	许丕池	西南科技大学四川省先进建筑材料重点实验室	7	38	4.0	6.0
6	夏安	西南科技大学四川省先进建筑材料重点实验室	5	30	3.0	5.0