射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响

• 作者: 刘惠文 周惠娣 徐洮 李红轩 陈建敏
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子增强化学气相沉积 类金刚石薄膜 射频功率 结构和性能
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 1885-1889
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 4005字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.04.075

摘要

利用直流-射频-等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜,采用原子力显微镜、Raman光谱、x射线光电子能谱、红外光谱和纳米压痕仪考察了射频功率对类金刚石薄膜表面形貌、微观结构、硬度和弹性模量的影响.结果表明,制备的薄膜具有典型的含H类金刚石结构特征,薄膜致密均匀,表面粗糙度很小.随着射频功率的升高,薄膜中成键H的含量逐渐降低,而薄膜的sp3含量、硬度以及弹性模量先升高,后降低,并在射频功率为100W时达到最大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈建敏	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	153	2711	28.0	45.0
2	周惠娣	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	102	1549	23.0	35.0
3	刘惠文	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	26	376	13.0	19.0
4	徐洮	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	75	815	16.0	23.0
5	李红轩	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	23	269	11.0	16.0