基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
运用电光采样技术揭示了反应离子刻蚀(RIE)ZnTe晶体表面THz辐射的光学整流产生机制,观察到0.25ps的THz场分布.通过比较刻蚀前后以及不同刻蚀条件下ZnTe样品在不同激发功率下的THz辐射强度,发现由于反应离子刻蚀破坏了ZnTe样品表面的有序性,晶体的电光系数随射频功率的增加而减小.借助于计算不同刻蚀条件下ZnTe晶体的频率响应函数,分析了随射频功率增加ZnTe晶体响应频谱展宽的现象.
推荐文章
硅的反应离子刻蚀实验研究
反应离子刻蚀
刻蚀速率
选择比
均匀性
偏振方向对ZnTe电光THz辐射探测的影响
红外物理
光学非线性
THz辐射
电光效应
ZnTe晶体
氮化硅的反应离子刻蚀研究
反应离子刻蚀
氮化硅
刻蚀气体
优化
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 反应离子刻蚀ZnTe的THz辐射和探测研究
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 THz辐射 反应离子刻蚀 ZnTe
年,卷(期) 2005,(10) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 4938-4943
页数 6页 分类号 O4
字数 3690字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.10.083
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 曹俊诚 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 39 485 10.0 21.0
2 顾春明 上海交通大学物理系凝聚态光谱与光电子物理实验室 7 58 3.0 7.0
3 贺莉蓉 上海交通大学物理系凝聚态光谱与光电子物理实验室 9 83 4.0 9.0
4 沈文忠 上海交通大学物理系凝聚态光谱与光电子物理实验室 35 210 7.0 13.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (4)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2005(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2008(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2009(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2013(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2019(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
THz辐射
反应离子刻蚀
ZnTe
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
论文1v1指导