Si过渡层对梯度影响类金刚石薄膜结合力的影响研究

• 作者: 刘成龙 徐军 李国卿 杨大智 胡德平 齐民
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: NiTi合金 类金刚石薄膜 过渡层 结合强度 划痕法
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1561-1563,1567
• 页数: 4页
• 分类号: O484.2|O484.5
• 字数: 1450字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.10.025

摘要

实验利用双放电腔微波-ECR等离子体源设备,采用复合PVD(physical vapor deposition)和PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)的方法, 先后在NiTi基体上沉积Si和Si/α-C∶H过渡层,然后制备类金刚石薄膜.Raman光谱和透射电镜表明制备的梯度薄膜是典型的类金刚石薄膜,划痕的测试结果表明, Si过渡层沉积时间影响着梯度类金刚石薄膜与NiTi合金基体之间的结合强度,当沉积时间在60min左右时可获得具有最好结合强度的梯度薄膜,而超过或低于这个时间值会导致膜基结合强度降低.