径向三重流MOCVD反应器输运过程的数值模拟

• 作者: 刘祥林 左然 张红
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: MOCVD 输运过程 热对流 数值模拟
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 977-982
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.054
• 字数: 4038字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.05.024

摘要

对径向三重流MOCVD反应器的输运过程进行了二维数值模拟研究.在模拟计算中,分别改变反应腔几何尺寸、导流管位置、流量、压强、温度等条件,得到反应器流场、温场、浓度场的相应变化.根据对模拟结果的分析,发现反应腔内涡旋首先在流动的转折处产生,上下壁面温差的加大使涡旋增大,中管进口流量的增加对涡旋产生抑制作用,内管和外管流量的增加对涡旋产生扩大作用.得出输运过程的优化条件为:反应腔上下壁靠近,导流管水平延长,中管进口流量尽量大于内、外管流量,压强尽量低于105Pa,上下壁面温差尽量减小等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘祥林	中国科学院半导体研究所	19	103	5.0	9.0
2	左然	江苏大学能源与动力工程学院	69	606	14.0	22.0
3	张红	江苏大学能源与动力工程学院	23	150	6.0	12.0