纳米Ni粒子/PTFE复合磁性膜的制备及表征

• 作者: 张丙怀 曹渊 杜军 杨修明 陶长元
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 化学
• 关键词: 纳米Ni粒子 PTFE 磁性复合膜 磁化率 原位复合
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 118-120
• 页数: 3页
• 分类号: O648.15
• 字数: 2027字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2005.07.033

摘要

采用双向膜相扩散控制原位化学沉积方法,在聚四氟乙烯(PTFE)膜孔道中及膜面上原位化学沉积、生长磁性纳米Ni粒子,制得纳米Ni粒子/聚合物磁性复合膜.探讨了制备条件对复合膜磁性能的影响,并用XRD和SEM等手段对磁性复合膜的结构、组成进行了表征.结果表明,复合膜膜孔中及膜表面上均有纳米级Ni粒子生成,且膜孔中的Ni粒子对复合膜磁性能具有显著影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶长元	重庆大学化学化工学院	177	1955	25.0	33.0
2	杜军	重庆大学化学化工学院	104	1177	20.0	29.0
3	曹渊	重庆大学化学化工学院	89	521	12.0	17.0
4	张丙怀	重庆大学材料科学与工程学院	53	519	13.0	18.0
5	杨修明	重庆大学化学化工学院	4	40	3.0	4.0