澄清溶液体系二次生长法NaA型沸石膜的生长机制及膜厚的控制合成

• 作者: King-Lun Yeung 刘海鸥 张雄福 王金渠
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: NaA 沸石 分子筛膜 无机膜
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 806-810
• 页数: 5页
• 分类号: O614
• 字数: 3567字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2005.05.004

摘要

用晶种涂层二次生长成膜法研究了在含水量不同的澄清溶液合成体系中NaA型沸石膜的生长及沸石膜厚度的控制合成. 用SEM, TEM和XRD表征手段分析了沸石膜的形成过程和微结构. 在载体表面不涂晶种而直接合成则不易形成连续沸石膜; 用晶种涂层二次法可以很容易形成均匀的连续膜. 合成液中水量的高低强烈影响沸石膜的生长速率、形成结构和膜的厚度. 在高水量(水硅摩尔比为2 000)的合成体系中沸石生长速率慢, 膜主要通过晶种层中的晶粒长大, 交织成膜, 且膜只有一层结构; 而在低水量(水硅摩尔比为750)的合成体系中沸石生长速率快, 膜则通过晶种层表面晶粒向外生长、交织成膜, 而膜具有两层结构. 通过调变合成液的水量可有效地控制沸石膜层的厚度, 并能制得非常均匀、连续的膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	King-Lun Yeung	香港科技大学化学工程系	1	8	1.0	1.0