低能碳离子束沉积(111)织构的立方SiC薄膜

• 作者: 侯哲哲 刘志凯 尹志刚 张兴旺 杨少延 杨霏 柴春林 陈诺夫 马辉
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 3C-SiC 离子束沉积 (111)织构 低能量 扩散 通道效应
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 2385-2389
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.2+4
• 字数: 1951字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.12.022

摘要

在硅衬底上利用具有质量选择功能的低能离子束沉积技术沉积碳离子制备出除碳、硅之外无其他杂质元素的纯净的立方SiC薄膜.利用X射线光电子谱、俄歇电子能谱、X射线衍射对样品进行了表征.结果显示常温和400℃制备的样品为非晶结构,在800℃制备的样品由一富碳的表面层和有着良好化学计量比的SiC层组成,碳化硅晶体薄膜是(111)织构的.通过分析可知衬底温度、离子沉积能量和样品保温扩散时间等因素综合在一起对于在硅上沉积SiC薄膜起着重要作用.远远大于TRIM预测厚度的SiC薄膜的获得是高的衬底温度、一定注入能量的碳离子引起的增强扩散以及通道注入效应综合作用的结果.