化学气相沉积制备纳米结构碳化钨薄膜

• 作者: 朱英红 赵峰鸣 郑华均 马淳安 黄建国
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化钨 纳米结构薄膜 等离子增强化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 英文园地
• 页码范围: 789-793
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 636字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.05.044

摘要

采用氟化钨(WF6)和甲烷(CH4)为前驱体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备具有纳米结构的碳化钨薄膜.采用SEM、XRD、EDS等方法表征了碳化钨薄膜的形貌、晶体结构和化学组成.通过表征,表明在前驱体混合气体中的甲烷与氟化钨气体的流量比(碳钨比)为20、基底温度为800℃的条件下得到的碳化钨薄膜是由直径为20～35nm的圆球状纳米晶构成.通过分析影响薄膜的晶体结构、化学组成的因素后,认为要得到具有纳米晶结构的碳化钨薄膜,主要应控制前驱体气体中的碳钨比以及基底温度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑华均		32	252	10.0	15.0
5	黄建国		1	6	1.0	1.0
6	马淳安		1	6	1.0	1.0
7	赵峰鸣		1	6	1.0	1.0
8	朱英红		1	6	1.0	1.0