HF-PECVD法生长BN1-xPx薄膜

• 作者: 张溪文 徐世友 韩高荣
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: BN1-xPx薄膜 磷掺杂 光学带隙
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 458-460
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.2
• 字数: 2679字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.03.044

摘要

以光学石英片为衬底,采用热丝-等离子体辅助化学气相沉积方法(HF-PECVD)沉积了BN1-xPx薄膜.通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDAX)、紫外-可见(UV-VIS)等测试手段研究了薄膜的化学组成、结构以及P元素掺杂量对BN1-xPx薄膜材料光学带隙的调制规律.结果表明所沉积薄膜为B、P、N组成的三元化合物,没有相偏析,定向生长,与石英衬底结合牢固.BN1-xPx薄膜中随着磷元素相对含量的增加,其光学带隙相应窄化,即通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学材料系硅材料国家重点实验室	187	1971	24.0	35.0
2	张溪文	浙江大学材料系硅材料国家重点实验室	43	309	11.0	16.0
3	徐世友	浙江大学材料系硅材料国家重点实验室	2	12	1.0	2.0