电镀高饱和磁感应(Bs)CoNiFe软磁薄膜研究

• 作者: 方光旦 王振廷 赵国刚 邓福铭 雷仁贵
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 高Bs软磁膜 CoNiFe合金
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 359-361
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 1990字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.03.013

摘要

研究了电沉积CoNiFe合金薄膜镀液中主盐离子浓度对膜层磁性能的影响.用振动样品磁强计(VSM)和四探针等方法测试分析了膜层的物理性能.结果表明膜层的物理性能与合金镀液中的主盐离子浓度密切相关,镀液中Ni2+、Fe2+、C02+浓度分别为0.2、0.012和0.063mol/L时,电沉积的CoNiFe合金膜层的电磁性能较佳.其饱和磁化强度Bs达1.9T,矫顽力Hc为91.5A/m,电阻率为45μΩ·cm,在1MHz下磁导率μi为602.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方光旦	中国科学院计算技术研究所	5	17	3.0	4.0