聚对二甲苯/SiO2薄膜应用于KDP晶体增透保护膜的制备研究

• 作者: 刘枫 吴兆丰 吴广明 沈军 秦仁喜 肖轶群
• 来源期刊: 材料导报
• 关键词: 聚对二甲苯 SiO2增透膜 KDP晶体 保护膜
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 109-111
• 页数: 3页
• 字数: 2105字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2005.01.032

摘要

报道了采用真空化学气相沉积法制备的聚对二甲苯薄膜和采用溶胶-凝胶技术制备的二氧化硅增透膜,通过提拉镀膜法在聚对二甲苯薄膜表面镀制SiO2增透膜得到的双层膜可应用于KDP晶体的增透保护膜.用FT-IR、紫外-近红外分光光度计对聚对二甲苯/SiO2薄膜的结构和光学性能进行了表征和测试.双层膜的透射率达到92%以上,激光损伤阈值为8J/cm2.镀有保护膜的KDP晶体在相对温度稳定的环境下放置半年多后透射率基本保持不变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
2	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
3	刘枫	同济大学波耳固体物理研究所	9	35	4.0	5.0
4	秦仁喜	同济大学波耳固体物理研究所	8	108	4.0	8.0
5	肖轶群	同济大学波耳固体物理研究所	10	149	8.0	10.0
6	吴兆丰	同济大学波耳固体物理研究所	7	47	4.0	6.0