纳米粒子单层膜作掩模的纳米刻蚀技术研究

• 作者: 张亚非 张效岩 徐东 杨明来 王英 蔡炳初
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: LB膜 纳米粒子 掩模 纳米刻蚀
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 微纳加工与测试及封装技术
• 页码范围: 391-393
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.z1.139

摘要

采用LB(langmuir-blodgett)排布技术制备了大面积高密度的FePt纳米粒子单层膜,利用纳米粒子单层膜作为掩模,通过反应离子刻蚀技术进行了纳米刻蚀研究.实验结果表明,采用纳米粒子单层膜作为掩模,通过控制反应离子刻蚀条件可以实现纳米级(小于50nm)的纳米点阵和纳米柱的刻蚀.