基于紫外光直写技术制作波导布拉格光栅的方法

• 作者: 吴亚明 崔丽萍 李四华 李明
• 来源期刊: 科技开发动态
• 学科: 工学
• 关键词: 布拉格光栅 技术制作 波导 二氧化硅基片 集成电路工艺 折射率变化 SiO2 工艺制作 紫外光源 再利用 掩模 掺杂 光刻 掺锗
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 页码范围: 44
• 页数: 1页
• 分类号: TN253
• 语种: 中文

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李明	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	251	3222	29.0	47.0
2	李四华	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	8	64	5.0	8.0
3	吴亚明	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	35	193	9.0	11.0
4	崔丽萍	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	2	15	1.0	2.0