微晶硅薄膜的制备及结构和稳定性研究

• 作者: 孙建 张晓丹 朱锋 熊绍珍 耿新华 赵颖 高艳涛 魏长春
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 甚高频等离子体增强化学气相沉积 微晶硅薄膜 傅里叶变换红外吸收
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 3910-3914
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2110字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.08.077

摘要

采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备了不同衬底温度的微晶硅薄膜.利用傅里叶变换红外吸收对制备薄膜进行了结构方面的测试分析.结果表明:随衬底温度的升高,材料中的氢含量总的趋势下降;傅里叶变换红外吸收和二次离子质谱测试结果都显示薄膜中氧含量随衬底温度的升高而增加(在1019cm-3量级);与高衬底温度相比,低衬底温度制备的材料易于后氧化,这说明低温制备材料的稳定性不好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱锋	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	13	154	7.0	12.0
2	耿新华	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	62	364	13.0	17.0
3	孙建	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	67	311	10.0	14.0
4	赵颖	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	105	1195	16.0	33.0
5	张晓丹	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	57	247	7.0	14.0
6	魏长春	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	24	126	6.0	10.0
7	高艳涛	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	4	34	3.0	4.0
8	熊绍珍		2	11	2.0	2.0