低温制备微晶硅薄膜生长机制的研究

• 作者: 丁琨 刘丰珍 刘金龙 周炳卿 周玉琴 张群芳 朱美芳 李国华 谷锦华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 生长机制 微晶硅薄膜 表面形貌 热丝化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 1890-1894
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2962字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.04.076

摘要

采用热丝化学气相沉积技术制备了一系列处于不同生长阶段的薄膜样品,用原子力显微镜系统地研究生长在单晶硅衬底和玻璃衬底上薄膜表面形貌的演化.按照分形理论分析得到:在玻璃衬底上的硅薄膜以零扩散随机生长模式生长;而在单晶硅衬底上,薄膜早期以有限扩散生长模式生长,当膜厚超过某一临界厚度时转变为零扩散随机生长模式.岛面密度与膜厚的依赖关系表明,在临界厚度时硅衬底和玻璃衬底上的岛面密度均出现了极大值.Raman谱的测量证实,玻璃衬底上薄膜临界厚度与非晶/微晶相变之间存在密切的关系.不同的衬底材料直接影响反应基元的表面扩散能力,从而造成薄膜早期生长模式的差异.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李国华	中国科学院半导体研究所	25	99	5.0	9.0
2	刘金龙	中国科学院研究生院物理系	31	895	11.0	29.0
3	刘丰珍	中国科学院研究生院物理系	17	105	4.0	10.0
4	张群芳	中国科学院研究生院	3	29	2.0	3.0
5	朱美芳	中国科学院研究生院物理系	11	98	4.0	9.0
6	周玉琴	中国科学院研究生院物理系	11	46	4.0	6.0
7	丁琨	中国科学院半导体研究所	10	38	3.0	6.0
8	周炳卿	中国科学院研究生院物理系	2	25	1.0	2.0
9	谷锦华	中国科学院研究生院物理系	3	47	2.0	3.0