N离子注入对金刚石膜场发射特性的影响

• 作者: 吕宪义 吴汉华 李俊杰 胡超权 金曾孙 龙北玉
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 场致电子发射 N离子注入 金刚石膜 热丝化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1447-1451
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3300字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.03.079

摘要

不同剂量的N离子被注入到化学气相沉积金刚石膜内,研究了表面结构及场发射特性的变化.Raman谱和x射线光电子能谱分析表明,N离子的注入破坏了金刚石膜表面原有的sp3结构,并在膜内形成大量的sp2 C-C和sp2C-N键.样品的场发射测试显示N离子的注入显著提高了金刚石膜场发射特性,膜的场发射阈值电场从注入前的18 V/μm下降到注入后的4 V/μm.金刚石膜场发射特性的提高归因于N离子注入后膜内sp2C键含量的增加和体内缺陷带的形成,这些变化能改变膜的表面功函数,提高Feimi能级,降低电子隧穿表面的能量势垒.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙北玉	吉林大学超硬材料国家重点实验室物理学院	14	187	8.0	13.0
2	吴汉华	吉林大学超硬材料国家重点实验室物理学院	34	439	12.0	20.0
3	吕宪义	吉林大学超硬材料国家重点实验室物理学院	27	302	10.0	17.0
4	金曾孙	吉林大学超硬材料国家重点实验室物理学院	50	462	12.0	19.0
5	李俊杰	吉林大学超硬材料国家重点实验室物理学院	15	122	5.0	10.0
6	胡超权	吉林大学超硬材料国家重点实验室物理学院	5	15	2.0	3.0