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化学还原法向二氧化硅人工欧泊中填充Se
化学还原法向二氧化硅人工欧泊中填充Se
作者:
肖加余
许静
谢凯
龙永福
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
纳米硒
光子晶体
溶剂蒸发法
化学还原法
摘要:
本文提出了一种新的调节人工欧泊晶体的光学带隙的方法.采用改进的溶剂蒸发法将单分散SiO2微球组装成在红外光区具有光子带隙的人工欧泊,采用化学还原法向欧泊中填充高折射率材料Se,改变其光学带隙特性.采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射和可见-近红外光谱仪(VIS-NIR)等对Se-SiO2三维光子晶体的形貌、结构和光学性能进行了观察测试.研究结果表明Se以纳米晶粒的形式均匀地包覆在SiO2微球表面,与相同晶格周期的SiO2光子晶体相比,Se-SiO2光子晶体的带隙发生明显的红移.
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篇名
化学还原法向二氧化硅人工欧泊中填充Se
来源期刊
人工晶体学报
学科
工学
关键词
纳米硒
光子晶体
溶剂蒸发法
化学还原法
年,卷(期)
2006,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
20-23
页数
4页
分类号
TQ127
字数
2648字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
肖加余
国防科技大学材料工程与应用化学系
170
1846
21.0
32.0
2
龙永福
国防科技大学材料工程与应用化学系
41
202
8.0
11.0
3
谢凯
国防科技大学材料工程与应用化学系
73
638
14.0
20.0
4
许静
国防科技大学材料工程与应用化学系
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研究主题发展历程
节点文献
纳米硒
光子晶体
溶剂蒸发法
化学还原法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
主办单位:
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-985X
CN:
11-2637/O7
开本:
16开
出版地:
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
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