纳米Si镶嵌SiO2薄膜的发光与非线性光学特性的应用

• 作者: 林赏心 王启明 郭亨群
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 纳米Si 光致发光 被动调Q
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 345-349
• 页数: 5页
• 分类号: O469
• 字数: 3985字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.02.028

摘要

采用射频磁控溅射技术和热退火处理制备了纳米Si镶嵌SiO2薄膜,在室温下观察到光致发光现象,峰值分别位于360,430和835nm,结合吸收谱、光致发光激发谱和X射线衍射分析讨论了发光机理.利用纳米Si镶嵌SiO2薄膜的非线性光学特性可作为可饱和吸收体,在Nd:YAG激光器中实现被动调Q运转.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王启明	中国科学院半导体研究所	118	735	14.0	20.0
2	郭亨群		40	180	8.0	11.0
3	林赏心		5	24	2.0	4.0