氢化锆表面Cr-C-O氢渗透阻挡层XPS分析

• 作者: 常英 赵平
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氢化锆 电镀 氢渗透 阻挡层
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 60-61,74
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.4|TG156.8
• 字数: 2222字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2006.02.023

摘要

在空间堆中,氢化锆作为慢化剂的工作温度为650～750℃,在此温度范围内,H/Zr原子数之比大于1.8的氢化锆中的氢很容易析出.通过X射线光电子能谱(XPS)研究了电镀法制备的氢化锆表面氢渗透阻挡层的化学态,对镀层进行了深度(100、200、300nm)刻蚀分析和镀层原子的定量分析.结果表明,镀层中含有C、O、Cr和Zr,进行氢渗透试验后(700℃保温)的试样镀层的C-H键数量有明显增加,而O-H键的数量变化不大.由此可以说明,氢渗透受阻的原因是氢在渗透过程中被镀层中的C优先捕获生成C-H键.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵平		52	271	9.0	15.0
2	常英		2	35	2.0	2.0