国外超高纯及超细纳米材料

• 作者: 陶道敏(译)
• 来源期刊: 无机盐技术
• 学科: 工学
• 关键词: 超高纯 chemical公司 纳米材料 化学机械抛光(CMP) 胶体二氧化硅 二氧化硅含量 超细 国外 合成工艺 半导体生产
• 年，卷（期）: wjyjs_2006,（1）
• 页码范围: 12-13
• 页数: 2页
• 分类号: TQ221.23

摘要

1超高纯水溶性胶体二氧化硅一半导体生产中，用作化学机械抛光（CMP）的抛光剂 日本Fuso chemical公司开发成功一种水溶性超高纯胶体二氧化硅．其二氧化硅含量较现有产品高出3倍。到目前为止．水溶性胶体二氧化硅的最高含量12％．该公司通过优化溶胶凝胶合成工艺．使其二氧化硅含量高达40％。该公司合成的超高纯胶体二氧化硅占有世界硅片抛光剂市场份额的80％。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶道敏(译)		4	0	0.0	0.0