银离子注入对TiN薄膜和热解碳抗菌性能的影响

• 作者: 冯宏剑 刘谦祥 唐慧琴 赵杰 郭希铭
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子注入 TiN薄膜 热解碳 抗菌性
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 40-43
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2976字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2006.01.013

摘要

用格兰氏阳性金黄葡萄球菌和格兰氏阴性大肠杆菌,研究了银离子注入TiN薄膜和热解碳的抗菌性. 银离子注入能量为70 keV, 注入剂量为5×1014～5×1016 ions/cm2. 对样品表面和近表面层进行了扫描电镜(SEM)、背散射(RBS)和俄歇分析(AES). 结果表明,银离子注入后TiN薄膜和热解碳均具有抗菌性,其注入热解碳的抗菌率比注入TiN薄膜的抗菌率高. 微观分析的结果表明材料的表面形貌、结构和银的分布是影响抗菌性的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘谦祥	天津师范大学物理与电子信息学院	9	57	4.0	7.0
2	赵杰	天津师范大学物理与电子信息学院	40	171	8.0	11.0
3	郭希铭	天津师范大学物理与电子信息学院	6	29	4.0	5.0
4	唐慧琴	天津师范大学物理与电子信息学院	8	54	5.0	7.0
5	冯宏剑	天津师范大学物理与电子信息学院	3	22	3.0	3.0