辅助气体CH4和Ar对IBED制备碳膜性能的影响

• 作者: 关凯书 周建新 朱晓东 李璞
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束辅助 增强沉积 碳膜 类石墨膜 结合强度
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 24-26
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444|O484
• 字数: 2522字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2006.04.008

摘要

采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响.结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度;采用Ar辅助轰击的薄膜在硬度、结合强度方面要优于CH4辅助轰击的薄膜;相对于类金钢石薄膜,所制备的碳膜更接近于类石墨膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱晓东	西安交通大学材料学院	18	299	8.0	17.0
2	关凯书	华东理工大学化工机械研究所	81	850	17.0	25.0
3	周建新	华东理工大学化工机械研究所	13	109	5.0	10.0
4	李璞	华东理工大学化工机械研究所	6	62	3.0	6.0